OIC会议是国际光学薄膜界最重要、最高水平的会议，至今已有近40年的历史。OIC会议由美国光学学会主办，每三年举办一次。会议组织的设计、制备和测试竞赛活动，至今已举办多届，由于题目具有一定的挑战性，每次赛事都会吸引大量国际顶尖的光学薄膜科研和生产单位的参与，是OIC会议的关注焦点。
图1 设计比赛结果
本届会议的设计竞赛题目为角度不敏感颜色滤光片（Angle-Independent Color Mirror），要求0-60°的不同入射角度下，滤光片镜面反射光谱的最大色差ΔE00达到最小，同时保证饱和度C>100，亮度L>30，色相角1200ab<1800 。来自中国、美国、俄罗斯、德国、日本、法国等国家的多个单位参赛，其中包括美国JDSU、俄罗斯莫斯科大学、法国菲涅耳研究所、日本尼康、美国依视路、同济大学等。浙江大学提交的设计膜系，由4种介质和2种金属材料构成，总层数为76层，总物理厚度为4611nm，最大色差ΔE00<0.005。由于循序渐进、富有成效的设计理念，最终浙江大学战胜了实力强劲的俄罗斯莫斯科大学、法国菲涅尔研究所和美国的Southwell，获得了第一的佳绩。
图2 制备比赛的透过率曲线和结果(标注红色的为浙江大学样品)
而本次会议的制备竞赛题目为可见-近红外波段(400-1100nm)透过率曲线轮廓为半圆形的滤光片制备，共有美国、德国、日本、法国、加拿大、中国等7个国家的15个机构参加，其中包括美国JDSU、德国汉诺威激光中心、加拿大国家研究中心、CVI Melles Griot等，其参赛人数和样品数均为历届之最。浙江大学作为国内唯一参赛的单位，采用自制的双离子束溅射(DIBS)设备制备了55层Nb2O5/SiO2样品，获得了1.55的评价函数，在所有参赛样品中位列第四，这也是2004年OIC会议组织制备竞赛以来，国内单位获得的最好成绩。而本次会议的测试竞赛为减反射膜(AR coating)样品0度入射下400nm-700nm波段内的反射率表征，由于没有绝对的标准，所以测试结果不做排名，只做相互参考。
浙江大学在本届OIC会议竞赛获得的成绩，充分展示了浙江大学在光学薄膜领域与国际接轨的科研水平和技术能力。
