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实验室安全规则
近场光学显微镜能够以探针作为亚微米光源或探测器以及受抑全反射等三种工作方式探测样品,在没有样品-探针
用于微孔、微槽加工,微纳科学研究
可以外延生长硅、锗以及掺杂材料,目前用于量子点和高质量锗膜的制备。
对金属、玻璃、PMMA等各种材料的零件,进行球面、非球面、和自由曲面等形状的纳米级超精密镜面加工
材料剖面观察,纳米结构制备与加工,辅助性气体刻蚀与沉积。
用途:光学镜头研发、光路传递函数测试、其他光学参数如焦距、法兰焦距、后截距、相位传递函数、畸变、色散
特点:具有ESB/SE/INLENS三种探测器,最大可以放大达到42万倍,观察可以是一个样品的表面,
用光的干涉原理,非接触式测量样品的三维形貌,得到三维形貌图以及相关数据。主要是测试三维形貌及非接触式
Characteristic: Measuring visible, near infrared a
浙江大学现代光学仪器国家重点实验室始建于1989年,1995年建成并通过国家验收,1996年正式对外开放。实验室的定位为:以发展现代光学仪器为主旨,围绕国家重大需求,结合光学工程与光子学前沿技术,发展光学仪器的新概念、新技术、新工艺,引领光学仪器相关研究与产业发展,建设国际一流的光学仪器研究和人才培养基地。